Urządzenie ATON MOS 20/9/3 skutecznie oczyszcza gazy poprocesowe z zanieczyszczeń organicznych (LZO – lotne związki organiczne, CO, NOx), przez neutralizację szkodliwych substancji i dopalanie węglowodorów w wysokich temperaturach.
Technologia bazuje na chronionej zgłoszeniem patentowym metodzie MOS (Microwave Oxidation System), dzięki czemu sama nie jest źródłem emisji gazów cieplarnianych.
Instalacja jest elementem układu odciągu i oczyszczania gazów poreakcyjnych stanowiska spiekania. Składa się z:
- trzech trójsegmentowych reaktorów:
- wypełnionych złożem ceramicznym o właściwościach katalitycznych i o dużej zdolności pochłaniania mikrofal, ogrzewania się i transmitowania energii w formie ciepła do oczyszczania gazów odlotowych
- uzbrojonych w generatory mikrofalowe oraz palniki gazowe (po jednym dla każdego reaktora) do wstępnego podgrzania złoża ceramicznego
- dwóch kolektorów: doprowadzającego i odprowadzającego gazy poddawane neutralizacji
- wymiennik ciepła typu spaliny- spaliny, typu płaszczowo- rurowego
- szafy zasilająco- sterowniczej
